飞秒激光3D直写系统
时间：2014/6/5 9:37:24
在过去的几十年里，微纳技术已经取得了巨大的进展。其中关键因素之一是刻蚀技术的不断改进，刻蚀技术是创新的驱动力。迄今为止，亚微米量级的刻蚀仍局限于平面物体，但随着进一步小型化、高密度集成的大趋势，下一代的目标将会从平面2D刻蚀向3D刻蚀转变。激光3D直写系统(DLW)作为激光刻蚀的原动力具有巨大的潜在优势。DLW能够被认为具有与平板电子束刻蚀一样的特性，即可以随意的刻蚀3D微纳结构，加工尺度可以达到100nm数量级。该技术在生命科学、光电子、光子学、材料学等领域有着广泛的应用。
 
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